真的造出来了！中国光刻机历史性突破荷兰ASML担心的事情出现了

时间: 2025-05-20 20:03:32 |   作者: 新闻中心

  3月25日，国际光电工程学会（SPIE）的网站传出一则消息，刹那间在科技界激起了巨大的波澜。

  中国科学院成功研制出全固态深紫外（DUV）激光，其光源波长设定为193纳米。这对于整个行业而言，堪称一次技术变革，在未来也许会使光刻机的形态发生改变。

  在过去的数年之中，西方诸国针对中国实行高端型号光刻机的禁售举措，于技术方面做严密的封锁，那么中国究竟是如何达成目标的呢？

  我们都清楚，光刻机属于制造芯片的关键设备，要是缺少它的话，芯片生产线就如同一堆毫无用处的废铁。

  简单来说，DUV激光是一种用于给芯片绘图的设备，光源的波长越短，能够绘制出的线条就越精细，芯片的性能自然就越出色。

  193纳米是一个极为关键的数字，DUV光刻机的主流工艺都依靠它得以支撑，其能够达成7纳米甚至3纳米这样的级别。

  中科院此次取得的突破，完全摆脱了传统的方式，没有采用荷兰ASML的氟化氙准分子激光技术，而是凭借谐波转换与光学参数放大，另辟蹊径搞出了一套全新的方案。

  这个光源的体积较为小巧，与传统光源相比，其能耗降低了70%，并且不会释放有毒气体，既环保又高效，光是听着就很吸引人。

  再来关注一下哈尔滨工业大学（哈工大）在极紫外光刻（EUV）方面的发展状况，其针对的是13.5纳米波长，这一成果面向的是更为高端的工艺，相较于深紫外光刻（DUV）又有了进一步的发展。

  尽管当前仍然处于实验室阶段，不过要是和中科院的DUV光源相结合的话，就会让人觉得中国的光刻机技术仿佛是依靠两条腿前行，一步一步地向上攀升。

  从理论上来说，要是DUV光源能够应用于生产线纳米工艺就不再仅仅是空想了，而且在未来一旦EUV发展成熟，那可是朝着2纳米甚至1纳米迈进的趋势。

  当然，技术这玩意儿，说得再神秘也得贴合实际，外行人比较感兴趣的一个方面是，中科院的这套光源厉害在何处。

  简单来讲，它宛如一个更为省油且更为小巧的发动机，将其装配到光刻机之中，就能够使整台机器运转得更为顺畅。

  至于是不是真的能够派上用场，这还要取决于后续的光学系统、镜头等部件能否与研发进程相匹配。

  光刻机始终是限制发展的关键难题，ASML掌控着高端市场拒不松口，美国只要一行动就能把中国拒之门外。

  这就使得中芯国际、华为之类的企业，想要制造出优质芯片，却在光刻机这一环节受到严重制约。

  现如今中科院有如此大的动作，人们很难不去畅想未来。假使能够顺利实现量产，那中国自主生产高端芯片就有希望了。

  说不定到当时，华为的麒麟芯片就又能重振旗鼓了呢，中芯国际也能够理直气壮，不必再仰人鼻息去购买二手货了。

  在全球范围内看，这件事产生的影响是极为重大的。ASML如今在光刻机领域占据着霸主地位，DUV和EUV技术被其牢牢掌握，就如同拥有了一台印钞机一般。

  若中国将这一技术攻克，那便相当于在供应链中涉足，芯片价格战恐怕会随之爆发，欧美那些依赖技术封锁来维持生计的日子就会变得艰难起来，这也正是荷兰ASML最为担忧的情形。

  分析人士已经着手计算相关情况了，他们表示，一旦中国实现自给自足，全球的半导体市场必然要重新进行格局调整，这可不是在故意夸大其词，要知道在芯片这样的领域，能制造的一方就拥有话语权。

  往大的方面考虑，这种技术并非只能应用于芯片厂，医疗设施、航空器材等领域或许也能够受益。

  像激光手术，其精度或许会更高一些，卫星上的光学部件也能够制作得更为轻巧，技术最迷人之处就在于你永远没办法预测它能够发展到何种程度。

  接下来，我们要做的事情是把光学系统校准得更加精确，稳定制造流程，力求早日掌握高端工艺制程。

  从长远的角度来看，中国说不定能够直接跻身于光刻机技术的第一阵营。ASML耗费了30多年的时间才达到如今的地位，要是中国可以在一定程度上完成后来者居上，那可真算是打了一场漂亮的翻身仗。

  然而，我们一定要正视当下存在的差距。从实验室到工厂，其间存在着好几道阻碍，专利壁垒更是一道难以逾越的巨大障碍，ASML的2万多项专利可不是徒有其名的，中国必须开辟出一条属于自身个人的道路。

  回首往昔，中国于光刻机领域一路走来，其间的艰辛困苦程度，简直足以著成一部饱含血泪的历史。

  在20世纪90年代的时候，芯片于中国而言就像是遥不可及的传说。别说是制造光刻机了，就连低端芯片都要依赖进口，所有的生产线都是国外的产品。

  在那个时期，国内连一家拿得出手的半导体工厂都难以组建起来，技术方面存在的差距大到令人感到绝望。进入2010年之后，情况变得更艰难了。

  美国主导构建了“瓦森纳协定”，高端光刻机由此沦为禁运物品，即便ASML（阿斯麦）的设备再先进，中国也无法获取用于研究。

  2019年的时候，中兴和华为相继遭受制裁，芯片供应被切断的那种感受，只有亲身经历过的才知晓，而光刻机成了一道难以跨越的障碍。在那几年间，网络上到处都是怨言，都在讲中国的科技被限制得太过严重，也不知道何时才能够自主制造出一台光刻机来。

  实际上，中国一直都没闲着。早年间，上海微电子经过不懈努力，成功研制出了一台90纳米的光刻机。

  2002年，当这台机器问世时，国内科技界一片哗然，都认为终于有了一个开端。

  尽管与ASML的顶级产品相比仍有很大差距，但好歹有了希望。之后，中科院、清华大学等机构也参与进来，专心钻研光源、光学系统等核心部件。

  成果已经取得了不少，然而距离量产总是差了那么一点儿。实验室里有众多亮眼的论文产出，可是工厂却一直无法开工。

  2020年之后出现了转折点，彼时国家下定决心，将芯片产业列为重中之重，资金、人才、政策都向该产业倾斜。

  产学研携手合作，逐渐有了进展，2025年DUV和EUV取得的突破，可谓是熬过了先前的艰难时期。

  从90纳米制程一直发展到3纳米制程，从完全依赖进口到自主研发光源，这一历程耗费了30多年的时间，每一个阶段都如同在泥沼中艰难前行。

  科研工作者们想必常常熬夜加班吧。在实验室里，灯光亮如白昼，仪器发出嗡嗡的声音。他们眼睛紧盯着数据，手中握着已经变凉的饭盒，可心中却满是希望。

  这并非是在和谁置气，而是期望证明中国一样能做到。不管技术封锁多么严酷，都无法阻拦这股不甘示弱的劲头。

  如今回首往昔，这一路走来实在是万分艰辛，每一回的突破，都仿若于绝境之中强行开辟出一条生路。

  中科院的这套DUV光源绝不是偶然得来的，而是众多人咬牙坚持才取得的成果，并且这并非终点，仅仅是一个新的开端。

  前方的道路还很漫长，不过就当下而言，中国已然登上了擂台，距离与世界一流强者一较高下的日子已经不远了。

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